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安博体育app下载-英特尔拿下首套High-NA EUV,台积电如何应对?

01/19/2024 10:34:26

英特尔(intel)近日宣布,已经接收市场首套具有0.55数值孔径(High-NA)的ASML极紫外(EUV)光刻机,预计在未来两到三年内用于 intel 18A 工艺技术之后的制程节点。

相较之下,台积电则采取更加谨慎的策略,业界预计台积电可能要到A1.4制程,或者是2030年之后才会采用High-NA EUV光刻机。

业界指出,至少在初期,High-NA EUV 的成本可能高于 Low-NA EUV,这也是台积电暂时观望的原因,台积电更倾向于采用成本更低的成熟技术,以确保产品竞争力。High-NA EUV 需要更高的光源功率才能驱动更精细的曝光尺寸,这会加速投影光学器件和光罩的磨损,抵消了更高产能的优势。

而台积电早在 2019 年就开始在芯片量产中使用 EUV 光刻机,虽然比三星晚了几个月,但是比英特尔早了几年的时间。当前,英特尔希望在 High-NA EUV 领域抢先三星和台积电,以获得一定的技术和战略优势,增加客户的青睐程度。

未来,随着台积电采用 High-NA EUV 光刻机,晶圆代工厂商先进制程技术之争又将如何发展,则需要后续持续观察。

封面图片来源:拍信网